Copper-clad laminate and sputtering target for forming copper-clad laminate
WO2025110177
Art A1
30. Mai 2025
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025110177
- Aktenzeichen
- EP24894168
- Anmeldetag
- 20. November 2024
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B32B15/08H05K1/03H05K1/09
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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