Method for adjusting at least one sensor for a projection exposure apparatus and projection exposure apparatus

WO2025114433 Art A1 5. Juni 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025114433
Aktenzeichen: EP24820277
Anmeldetag: 28. November 2024
Veröffentlichung: 5. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B7/182

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von