Polymer, liquid repellent material containing said polymer, photosensitive composition containing said polymer, cured product obtained by curing said photosensitive composition, pattern film-equipped substrate using said photosensitive composition, method for manufacturing said pattern film-equipped substrate, and image display device having said pattern film-equipped substrate

WO2025115687 Art A1 5. Juni 2025

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025115687
Aktenzeichen: EP24897373
Anmeldetag: 18. November 2024
Veröffentlichung: 5. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075C08F2/50C08G77/28G03F7/029G03F7/031G09F9/00G09F9/30H05B33/14H10K59/122H10K59/173H10K71/12H10K71/13H10K71/20H10K85/10

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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