Cleaning liquid, cleaning method, and method for manufacturing semiconductor element
WO2025115729
Art A1
5. Juni 2025
Anmelder: AGC INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025115729
- Aktenzeichen
- EP24897415
- Anmeldetag
- 20. November 2024
- Veröffentlichung
- 5. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304C11D7/08C11D7/22C11D7/26C11D7/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AGC INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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