Radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, method for producing electronic device, acid generation agent, method for producing compound, compound, and acid generation method

WO2025115804 Art A1 5. Juni 2025

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025115804
Aktenzeichen: EP24897489
Anmeldetag: 25. November 2024
Veröffentlichung: 5. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/80C07C381/12C08F220/12C09K3/00G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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