Dry film photoresist using photosensitive resin composition, method for preparing same, resist pattern, and display device
WO2025116313
Art A1
5. Juni 2025
Anmelder: KOLON INDUSTRIES, INC. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025116313
- Aktenzeichen
- EP24897910
- Anmeldetag
- 29. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 5. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/16G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KOLON INDUSTRIES, INC.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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