Methods of forming ferroelectric devices

WO2025117053 Art A1 5. Juni 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025117053
Aktenzeichen: EP24898440
Anmeldetag: 12. Oktober 2024
Veröffentlichung: 5. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10N97/00H10B53/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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