Adapting Ion Implant Model During Maintenance Recovery
WO2025117127
Art A1
5. Juni 2025
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025117127
- Aktenzeichen
- EP24898462
- Anmeldetag
- 31. Oktober 2024
- Veröffentlichung
- 5. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317G06N3/063H01J37/302
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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