Deposition of resist underlayer for enhancing photoresist performance

WO2025117397 Art A1 5. Juni 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025117397
Aktenzeichen: EP24898562
Anmeldetag: 25. November 2024
Veröffentlichung: 5. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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