Laser powered plasma based euv generation system

WO2025119612 Art A1 12. Juni 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025119612
Aktenzeichen: EP24805537
Anmeldetag: 13. November 2024
Veröffentlichung: 12. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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