Measurement system for measuring a thickness of a layer on a substrate, deposition apparatus, method of measuring a thickness of a layer on a substrate, and method of controlling a thickness of a layer on a substrate
WO2025120352
Art A1
12. Juni 2025
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025120352
- Aktenzeichen
- EP23960699
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/54C23C14/28C23C14/04C23C14/52C23C14/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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