Semiconductor device and method for manufacturing same

WO2025120805 Art A1 12. Juni 2025

Anmelder: NTT, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025120805
Aktenzeichen
EP23960818
Anmeldetag
7. Dezember 2023
Veröffentlichung
12. Juni 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/28H10H20/832H10D64/62H01S5/042H10H20/825
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NTT, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 NTT (Nippon Telegraph and Telephone)

Japanischer Telekommunikationskonzern mit Sitz in Tokio. NTT ist im Festnetz-, Mobilfunk- und Datennetzgeschäft aktiv und entwickelt Technologien für Netzwerkinfrastruktur, Glasfaser, Cloud-Dienste und Informations- und Kommunikationssysteme.

12.862 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen