Composition for forming resist underlayer film
WO2025121370
Art A1
12. Juni 2025
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025121370
- Aktenzeichen
- EP24900663
- Anmeldetag
- 5. Dezember 2024
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/11C08G59/14G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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