Chemical additives for chemical mechanical planarization (cmp) polishing compositions
WO2025122389
Art A1
12. Juni 2025
Anmelder: VERSUM MATERIALS US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025122389
- Aktenzeichen
- EP24827484
- Anmeldetag
- 26. November 2024
- Veröffentlichung
- 12. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09G1/02C09K3/14H01L21/321
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- VERSUM MATERIALS US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Versum Materials US
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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