Halide-free co-reactants for molybdenum film deposition

WO2025122547 Art A1 12. Juni 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025122547
Aktenzeichen: EP24901427
Anmeldetag: 4. Dezember 2024
Veröffentlichung: 12. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/06C23C16/44C23C16/52H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.794 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von