Magnetron forming method, magnetron, and magnetron sputtering device

WO2025124330 Art A1 19. Juni 2025

Anmelder: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025124330
Aktenzeichen
EP24902751
Anmeldetag
9. Dezember 2024
Veröffentlichung
19. Juni 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G06F30/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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