Dopant addition device, dopant addition method, and method for producing silicon single crystal

WO2025126622 Art A1 19. Juni 2025

Anmelder: SUMCO CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025126622
Aktenzeichen: EP24903285
Anmeldetag: 1. Oktober 2024
Veröffentlichung: 19. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/06C30B15/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SUMCO CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumco

Sumco ist ein japanischer Hersteller von Siliziumwafern für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich entsprechend auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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