Film forming apparatus and film forming method, as well as crystalline metal oxide film, and multilayer structure and semiconductor device using same

WO2025127051 Art A1 19. Juni 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025127051
Aktenzeichen: EP24903705
Anmeldetag: 11. Dezember 2024
Veröffentlichung: 19. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/511C23C16/40C23C16/448H01L21/205H01L21/368

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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