Antiferromagnetic material with large anomalous hall effect
Anmelder: JSR CORPORATION, THE UNIVERSITY OF TOKYO, TOHOKU UNIVERSITY 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025127136
- Aktenzeichen
- EP24903789
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2024
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10N52/00H10B61/00H10N50/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JSR CORPORATION
THE UNIVERSITY OF TOKYO
TOHOKU UNIVERSITY - Land
- 🇯🇵 Japan
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
1.781 Patente in unserer Datenbank
Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.
2.129 Patente in unserer Datenbank
Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.
837 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.