Method for manufacturing through-electrode substrate and through-electrode substrate
WO2025127143
Art A1
19. Juni 2025
Anmelder: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025127143
- Aktenzeichen
- EP24903796
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2024
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05K3/20H01L23/12H05K1/11H05K3/40H05K3/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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Vertreten von
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