Method for manufacturing nano-mesh membrane using ion beam irradiation process, nano-mesh membrane manufactured thereby, mask for lithography using same, optical filter for lithography process using same, patterning device including same, and optical device including same

WO2025127757 Art A1 19. Juni 2025

Anmelder: POSTECH RESEARCH AND BUSINESS DEVELOPMENT FOUNDATI 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025127757
Aktenzeichen: EP24904322
Anmeldetag: 16. Dezember 2024
Veröffentlichung: 19. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: POSTECH RESEARCH AND BUSINESS DEVELOPMENT FOUNDATI
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Postech Research and Business Development Foundation

Die POSTECH Research and Business Development Foundation verwaltet die Patentverwertung der südkoreanischen Universität POSTECH (Pohang University of Science and Technology). Das Portfolio verteilt sich breit über Halbleitertechnik, Medizintechnik, Pharma/Biotechnologie und Software. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2019 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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