Methods for reducing photoresist and carbon etch rates in an icp process chamber using a silicon-based chamber pre-coat

WO2025128253 Art A1 19. Juni 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025128253
Aktenzeichen: EP24904600
Anmeldetag: 11. November 2024
Veröffentlichung: 19. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/311H01L21/67H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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