Vacuum exposure apparatus and assessment system

WO2025131589 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025131589
Aktenzeichen: EP24812527
Anmeldetag: 26. November 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/02H01J37/24H01J5/50H01J37/18

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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