Lithographic apparatus and device manufacturing method with preventing contaminant particles from being deposited on a sensitive component, such as a patterning surface of a patterning device

WO2025131731 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025131731
Aktenzeichen: EP24820389
Anmeldetag: 4. Dezember 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von