Refreshing of a donor substrate for the manufacture of a poi structure

WO2025132655 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: SOITEC 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025132655
Aktenzeichen
EP24826940
Anmeldetag
18. Dezember 2024
Veröffentlichung
26. Juni 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H10N30/073H10N30/086
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
SOITEC
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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