Fan, fan housing, radiation source, lithographic apparatus, and methods thereof

WO2025133856 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025133856
Aktenzeichen: EP24834863
Anmeldetag: 12. Dezember 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/036H01S3/0971H01S3/225H01S3/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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