Radiation-sensitive composition, composition for forming liquid immersion upper layer film, pattern formation method, and compound

WO2025134677 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025134677
Aktenzeichen: EP24907065
Anmeldetag: 22. November 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/10G03F7/20G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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