Composition for forming wafer edge protection film for semiconductor production

WO2025134712 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025134712
Aktenzeichen: EP24907099
Anmeldetag: 27. November 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/20G03F7/027G03F7/42H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von