Radiation-sensitive composition, pattern forming method and onium salt compound

WO2025134736 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025134736
Aktenzeichen: EP24907123
Anmeldetag: 29. November 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/39C07C309/42C07C309/48C07C309/58C07C317/14C07D307/00C07D307/33C07D317/18C07D327/06C07D335/02C07D337/04C07D339/08C07D409/04C07D409/06C08F212/14C08F220/10G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von