Resist composition, resist pattern formation method, compound, polymer compound, and acid diffusion control agent

WO2025134757 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025134757
Aktenzeichen: EP24907144
Anmeldetag: 3. Dezember 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C311/48C07C311/51C07C381/12C08F212/14G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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