Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and radiation-sensitive acid generator

WO2025134937 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025134937
Aktenzeichen: EP24907322
Anmeldetag: 13. Dezember 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/18C07C309/12C07C381/12C07D209/42C07D211/62C07D295/15C07D305/06C07D307/00C07D317/08C07D321/10C07D327/06C07D327/08C07D333/38C07D333/46C07D333/54C07D333/76C07D335/02C07D407/12G03F7/20

Offizieller Volltext

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Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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