Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and radiation-sensitive acid generation agent

WO2025134949 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025134949
Aktenzeichen: EP24907334
Anmeldetag: 13. Dezember 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/12C07C309/17C07C381/12C07D327/06C07D327/08C07D333/46C07D333/54C07D335/02G03F7/20G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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