In-Situ Calibration Of Gas Flows in Substrate Processing Systems

WO2025136713 Art A1 26. Juni 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025136713
Aktenzeichen: EP24908625
Anmeldetag: 9. Dezember 2024
Veröffentlichung: 26. Juni 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G01F25/10G01F1/76G01F15/00G01F15/02H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von