Nozzle cleaning apparatus and method for coating and developing device

WO2025139852 Art A1 3. Juli 2025

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD., CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025139852
Aktenzeichen: EP24910783
Anmeldetag: 13. Dezember 2024
Veröffentlichung: 3. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/12B08B3/10B08B3/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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