Internal light source, lithographic apparatus, metrology systems, and method thereof

WO2025140833 Art A1 3. Juli 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025140833
Aktenzeichen: EP24820674
Anmeldetag: 4. Dezember 2024
Veröffentlichung: 3. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G01N21/94

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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