Resist composition and method for producing resist film using the same

WO2025140918 Art A2 3. Juli 2025

Anmelder: MERCK PATENT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025140918
Aktenzeichen: EP24836949
Anmeldetag: 18. Dezember 2024
Veröffentlichung: 3. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/025G03F7/027G03F7/033

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MERCK PATENT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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