Discharge chamber gas replenishment system

WO2025141364 Art A1 3. Juli 2025

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025141364
Aktenzeichen
EP24829243
Anmeldetag
9. Dezember 2024
Veröffentlichung
3. Juli 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01S3/036
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
CYMER, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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