Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2025142852 Art A1 3. Juli 2025

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025142852
Aktenzeichen: EP24912739
Anmeldetag: 23. Dezember 2024
Veröffentlichung: 3. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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