Plasma-treated resist underlayer film, composition for forming resist underlayer film, method for producing plasma-treated resist underlayer film, and laminate

WO2025143126 Art A1 3. Juli 2025

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025143126
Aktenzeichen: EP24913012
Anmeldetag: 26. Dezember 2024
Veröffentlichung: 3. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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