Photolithography substrate with purge flow direction
WO2025144721
Art A1
3. Juli 2025
Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025144721
- Aktenzeichen
- EP24914202
- Anmeldetag
- 20. Dezember 2024
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/66H01L21/673
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ENTEGRIS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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Vertreten von
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