Anti-spacer masking process using resist layer with solubility shifting agent

WO2025144722 Art A1 3. Juli 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, GEMINATIO, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025144722
Aktenzeichen: EP24914203
Anmeldetag: 20. Dezember 2024
Veröffentlichung: 3. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/20G03F7/40G03F7/32G03F7/095H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
GEMINATIO, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von