Reflection-type mask blank, reflection-type mask, and method for producing reflection-type mask

WO2025146811 Art A1 10. Juli 2025

Anmelder: AGC INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025146811
Aktenzeichen: EP24915500
Anmeldetag: 26. Dezember 2024
Veröffentlichung: 10. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/80H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AGC INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.331 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von