Systems and methods for manufacturing high-efficiency capacitor layers and capacitors with 2d/3d structures

WO2025147508 Art A1 10. Juli 2025

Anmelder: WASHINGTON UNIVERSITY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025147508
Aktenzeichen: EP25736160
Anmeldetag: 2. Januar 2025
Veröffentlichung: 10. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H10D1/68G11C11/22H10B53/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: WASHINGTON UNIVERSITY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Washington University in St. Louis

Die Washington University in St. Louis ist eine private US-amerikanische Forschungsuniversität, deren Patente vor allem aus medizinischer und biowissenschaftlicher Forschung stammen.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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