Verfahren zum Abscheiden eine Dünne Schicht Enthaltene Iii-V-Schichtenfolge und Dazu Eingerichteter Vorrichtung
WO2025149413
Art A1
17. Juli 2025
Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025149413
- Aktenzeichen
- EP25700017
- Anmeldetag
- 3. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- AIXTRON SE
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Aixtron
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
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