Plasma processing device, misalignment amount detection device, and misalignment amount correction method

WO2025150150 Art A1 17. Juli 2025

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025150150
Aktenzeichen: EP24917214
Anmeldetag: 11. Januar 2024
Veröffentlichung: 17. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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