Photosensitive resin composition, photosensitive element, cured product, method for manufacturing cured product pattern, and method for manufacturing conductor pattern
WO2025150515
Art A1
17. Juli 2025
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025150515
- Aktenzeichen
- EP25738783
- Anmeldetag
- 8. Januar 2025
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/027G03F7/004G03F7/031G03F7/033
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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