Composition for forming protective film on edge of wafer for semiconductor manufacturing

WO2025150530 Art A1 17. Juli 2025

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025150530
Aktenzeichen: EP25738798
Anmeldetag: 9. Januar 2025
Veröffentlichung: 17. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C08G59/08C08G59/17G03F7/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von