Gas injection apparatus, substrate processing apparatus, and thin film formation method

WO2025150884 Art A1 17. Juli 2025

Anmelder: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025150884
Aktenzeichen: EP25738952
Anmeldetag: 8. Januar 2025
Veröffentlichung: 17. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Jusung Engineering

Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

276 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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