Device fabrication methods with ion beam processing

WO2025151160 Art A1 17. Juli 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025151160
Aktenzeichen: EP24917511
Anmeldetag: 20. September 2024
Veröffentlichung: 17. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L25/18H01L25/16H01L21/3065H01L23/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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