Apparatus and method for dry etching of aluminum gallium arsenide optical waveguides using argon gas plasma

WO2025153009 Art A1 24. Juli 2025

Anmelder: THE HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025153009
Aktenzeichen: EP25741570
Anmeldetag: 16. Januar 2025
Veröffentlichung: 24. Juli 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G02B6/136H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: THE HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 The Hong Kong University of Science and Technology

The Hong Kong University of Science and Technology ist eine chinesische Universität mit breiter naturwissenschaftlicher und technischer Forschung. Das Patentportfolio verteilt sich auf Medizintechnik, organische Chemie und Halbleiterbauelemente, ergänzt um Farben, Messtechnik und Nachrichtentechnik. Anmeldungen laufen von 2002 bis in die Gegenwart.

346 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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